Essence Make-up Natural Matte Mousse Foundation

Le fond de teint Essence Natural Matte Mousse Foundation constitue une base parfaite pour un teint naturel et mat : sa consistance fine et légèrement crémeuse permet d'unifier le visage et de maintenir le grain de peau uniformément frais tout au long de la journée.

Une texture légère et une couverture naturelle

. Grâce à sa teneur élevée en eau, le fond de teint Natural Matte Mousse est particulièrement facile à appliquer. Grâce à la pénétration rapide de l'humidité dans la peau, il reste agréable à porter et la peau peut continuer à respirer - les pores restent libres. Les irrégularités de la peau et les rougeurs disparaissent en un clin d'œil, sans que le fond de teint n'ait l'air d'un masque. Le résultat : un teint éclatant mais naturel et mat.

Une application facile pour tous les types de peau

. Le fond de teint Essence Natural Matte Mousse se caractérise par une application et un estompage sans effort. Une petite quantité suffit : Il suffit de l'étaler uniformément avec les doigts ou une éponge de maquillage et de laisser pénétrer brièvement. Pour un résultat parfait, utilisez encore une poudre visage mate pour lier la crème - et votre teint ressemble déjà à celui d'un livre d'images. Il faut également souligner que cette base de maquillage convient à tous les types de peau, en particulier aux peaux mixtes et grasses. Sans obstruer les pores, cette base maintient le grain de peau uniformément frais pendant longtemps.

Ne convient pas aux enfants de moins de 3 ans.

DIMETHICONE, ISODODECANE, DIMETHICONE CROSSPOLYMER, CETYL DIGLYCERYL TRIS(TRIMETHYLSILOXY)SILYLETHYL DIMETHICONE, HYDROGENATED CASTOR OIL, SILICA, TRIMETHYLSILOXYSILICATE, CALCIUM CARBONATE, MICA, C30-45 ALKYL DIMETHICONE, TOCOPHEROL, HELIANTHUS ANNUUS (SUNFLOWER) SEED OIL, STEARYL DIMETHICONE, DISTEARDIMONIUM HECTORITE, METHICONE, ETHYLHEXYLGLYCERIN, OCTADECENE, PROPYLENE CARBONATE, HEXADECENE, TALC, CI 77491 (IRON OXIDES), CI 77492 (IRON OXIDES), CI 77499 (IRON OXIDES), CI 77891 (TITANIUM DIOXIDE).